物理的及び化学的性質

フッ化ジスプロシウム(III)は、無色の六角形または菱形の結晶で、水および希酸に不溶で、濃硫酸との同時加熱によりフッ化水素を発生します。塩化ジスプロシウム(III)溶液にフッ化水素酸を加えて結晶を析出させます。

フッ化ジスプロシウム(III) の用途は、主にジスプロシウム含有金属合金の製造に使用されます。その応用例は次のとおりです。 1) 電解製造用のフッ化物溶融塩系に電解原料として希土類酸化物と酸化ジスプロシウム(III) の混合物を加えて、希土類ジスプロシウム合金を調製します。 ２）コーティングされたＮｄ−Ｆｅ−Ｂ焼結磁石を準備する。 Nd-Fe-B焼結磁石では、磁石内部にフッ化ジスプロシウム(III)またはフッ化テルビウムの被膜と接して、ジスプロシウムまたはテルビウムを含む遷移層が形成されます。 ３）１０１ＴＰ２Ｔ〜５０１ＴＰ２Ｔジスプロシウムと５０１ＴＰ２Ｔ〜９０１ＴＰ２Ｔネオジム、または５０１ＴＰ２Ｔ〜９０１ＴＰ２Ｔネオジムと０１ＴＰ２Ｔ〜３０１ＴＰ２Ｔプラセオジムからなる、重量パーセントで計算されたジスプロシウム金属合金を準備する。

調製したFeF3とH2SiF6はいずれも酸性溶液に可溶であるが、生成したAlF3はKSP(AlF3)=2.015×10-5であり、溶液への溶解度が低く、酸性溶液に不溶である。そのほとんどは DyF3 中で共沈します。溶液中のアルミニウムは DyF3 中で共沈します。したがって、希土類フッ化物へのアルミニウムの混入を低減するには、フッ化前にアルミニウムを可能な限り除去する必要があり、また、その後の洗浄作業負荷を軽減するために、フッ化物から鉄、化学物質、シリコンの不純物を除去する必要がある。可能な限り解決策を。従来のフッ化水素沈殿法は、レアアース分離プラントのコストを削減できますが、フッ化水素沈殿後の洗浄と清澄が難しいため、非レアアース不純物の除去には役立ちません。高品質のフッ化ジスプロシウム(III)を安定して製造するため、塩化ジスプロシウム(III)溶液中の非希土類不純物を処理した後、複合フッ化剤を用いてジスプロシウム中に粗粒フッ化ジスプロシウム(III)の沈殿物を調製します。 (III) 塩化物溶液。フッ化ジスプロシウム(III) の沈殿物を洗浄、濾過、乾燥し、真空脱水して高品質のフッ化ジスプロシウム(III) 製品を生成します。

基本情報

モデル番号:DyF3

組成:ジスプロシウム

粒子サイズ:1-3um

CAS 13569-80-7

アイネクス:236-992-9

分子量:219.495209

融点:1360℃

沸点:2200℃

形状:無色の六角形の結晶

輸送パッケージ:バッグまたはボトル

仕様:99.9% – 99.99%

商標:SUOYI

出身地：中国河北省

HSコード:2846903200

生産能力:2000トン/月

粒子サイズ:1-3um

色：ホワイトピュアファインパウダー

応用：金属製錬業、電気産業

最低発注金額:500g

パッケージ：25kg/バレル、50kg/ドラム